之前传闻显示,RTX 40系列将采用台积电4nm制造工艺,而在正式发布的时候,官方标注为“4N”,和台积电说的“N4”正好反过来。这是什么鬼?
我们的第一反应,是这属于定制版的台积电4nm,结果只猜对了一半。
根据快科技了解,4N工艺确实是NVIDIA与台积电定制的,但并非4nm,而是5nm,所以完整说法应该是台积电4N 5nm工艺。
这也再次证明,台积电的4nm、5nm工艺并无本质区别,前者主要是提高了晶体管集成度。当然了,总要比RTX 30系列的三星N8 8nm强太多了。
按照黄仁勋的说法,凭借新的架构和工艺,RTX 40系列的能效是RTX 30系列的两倍。
数据显示,Ada Lovelace架构的大核心AD102集成了763亿个晶体管,核心面积608.4平方毫米,密度为1.255亿个/平方毫米,内置18176个CUDA核心、142个第三代光追核心、568个第四代张量核心。
相比之下,三星8nm Ampere GA102核心是283亿个晶体管、628平方毫米,密度为4510万个/平方毫米。
换言之,台积电4N的集成密度是三星N8的足足2.8倍!
(还是有厂商误写作4nm)
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