盛美半导体上海 18 腔 300mm Ultra C VI 单晶圆清洗设备投入量产 盛美上海 Ultra C VI 设备支持先进逻辑、DRAM 和 3D NAND 制造所需的大多数半导体清洗工艺；产能较 12 腔设备提升 50%... IT业界 2022-04-22 890 #盛美半导体 #半导体
